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专利
专利名称:
形成具有空气间隙的半导体器件的方法
专利号:
201610178733.3
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-03-25
专利名称:
半导体测试单元及半导体测试结构
专利号:
201610620291.3
专利权人:SMIC(BJ)-SMIC(SH)
时间:2016-08-01
专利名称:
芯片
专利号:
201620242976.4
专利权人:SMIC(TJ)-SMIC(SH)
时间:2016-03-25
专利名称:
鳍式场效应晶体管及其形成方法
专利号:
201610006616.9
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-01-06
专利名称:
静电放电保护器件及其形成方法
专利号:
201610134352.5
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-03-09
专利名称:
半导体器件及其形成方法
专利号:
201610192692.3
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-03-30
专利名称:
互连结构及其制造方法
专利号:
201610532198.7
专利权人:SMIC(BJ)-SMIC(SH)
时间:2016-07-07
专利名称:
半导体结构的形成方法
专利号:
201610213621.7
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-04-07
专利名称:
Semiconductor Structure and Fabricating Method Thereof
专利号:
17163839.8
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2017-03-31
专利名称:
模拟信号检测系统和模拟信号检测方法
专利号:
201610274375.6
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-04-28
专利名称:
半导体结构及其形成方法
专利号:
201610133526.6
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-03-09
专利名称:
研磨垫及其形成方法、研磨监测方法
专利号:
201610297881.7
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-05-06
专利名称:
晶体管的形成方法
专利号:
201610407414.5
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-06-12
专利名称:
半导体结构的形成方法
专利号:
201610315813.9
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-05-12
专利名称:
一种半导体器件的制造方法
专利号:
201610331056.4
专利权人:SMIC(SH)-SMIC(BJ)
时间:2016-05-18
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