专利

专利名称：一种MOS器件原子层沉积原位制备方法
专利号：201610982579.5
专利权人：中国科学院微电子研究所
时间：2016-11-08
专利名称：原子层沉积技术制备薄膜的实现方法
专利号：201610101289.5
专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
时间：2016-02-24
专利名称：半导体成膜设备、衬底自动定位卡紧结构及卡紧方法
专利号：201511028800.5
专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
时间：2015-12-31
专利名称：半导体成膜设备、晶圆自动定位卡紧结构及卡紧方法
专利号：201511022294.9
专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
时间：2015-12-31
专利名称：一种原子层沉积技术制备薄膜的实现方法
专利号：201510929984.6
专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
时间：2015-12-15
专利名称：一种应用于薄膜沉积技术的气体分配器
专利号：201510900815.X
专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
时间：2015-12-09
专利名称：用于抛光设备中的供液装置
专利号：201710093550.6
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2017-02-21
专利名称：抛光头
专利号：201710117233.3
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2017-03-01
专利名称：CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING MACHINE
专利号：PCT/CN2017/000070
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2017-01-03
专利名称：化学机械抛光机及用于其的抛光组件
专利号：201611092859.5
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-12-01
专利名称：用于晶圆铜层厚度多点测量的标定系统
专利号：201621099178.7
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-09-30
专利名称：用于晶圆铜层厚度多点测量的标定系统
专利号：201610872138.X
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-09-30
专利名称：晶圆表面铜层厚度多点测量系统
专利号：201610875764.4
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-09-29
专利名称：多点测量晶圆表面铜层厚度的在线计算方法
专利号：201610860560.3
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-09-28
专利名称：多机械手重合工作区域的检测装置
专利号：201621086277.1
专利权人：天津华海清科机电科技有限公司、清华大学
时间：2016-09-27
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