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专利
专利名称:
用于电子标签的安全防护方法
专利号:
CN201610709826.4
专利权人:华大半导体有限公司
时间:2016-08-23
专利名称:
中空氮化铝坩埚用成型治具
专利号:
ZL201521117581.3
专利权人:苏州珂玛材料技术有限公司
时间:2015-12-30
专利名称:
一种浮栅存储器及其制备和控制方法
专利号:
201610132485.9
专利权人:复旦大学
时间:2016-03-09
专利名称:
LOAD LOCK CHAMBER AND THE CLUSTER TOOL SYSTEM USING THE SAME
专利号:
US15/267698
专利权人:沈阳拓荆科技有限公司
时间:2016-09-16
专利名称:
负载腔室及其使用该负载腔室之多腔室处理系统
专利号:
TW105112394
专利权人:沈阳拓荆科技有限公司
时间:2016-04-21
专利名称:
负载腔室及其使用该负载腔室之多腔室处理系统
专利号:
201610153803.X
专利权人:沈阳拓荆科技有限公司
时间:2016-03-16
专利名称:
一种去气腔室及其去气方法和半导体处理设备
专利号:
PCT/CN2017/075973
专利权人:北方微电子
时间:2017-03-08
专利名称:
一种去气腔室和半导体处理装置
专利号:
PCT/CN2017/073057
专利权人:北方微电子
时间:2017-02-07
专利名称:
一种磁控元件和磁控溅射装置
专利号:
PCT/CN2016/111745
专利权人:北方微电子
时间:2016-12-23
专利名称:
沉积设备以及物理气相沉积腔室
专利号:
PCT/CN2016/101565
专利权人:北方微电子
时间:2016-10-09
专利名称:
反应腔室及半导体加工设备
专利号:
201710131861.7
专利权人:北方微电子
时间:2017-03-07
专利名称:
升降门装置和晶片传输系统
专利号:
201710120644.8
专利权人:北方微电子
时间:2017-03-02
专利名称:
传片腔室及半导体加工设备
专利号:
201710100042.6
专利权人:北方微电子
时间:2017-02-23
专利名称:
一种沉积腔室和膜层沉积装置
专利号:
201710097242.0
专利权人:北方微电子
时间:2017-02-22
专利名称:
磁控溅射腔室及磁控溅射设备
专利号:
201710096324.3
专利权人:北方微电子
时间:2017-02-22
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