第八届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2024）

　　来这里，聆听来自产业界和学术界的最新研发成果，探讨最新技术动态！

　　国际先进光刻技术研讨会（IWAPS），基于中国，辐射全球。在国际光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等支持下，IWAPS已形成了涵盖光刻设备、工艺、检测和测量、掩模和材料、计算光刻、设计与工艺协同优化、新型光刻技术等主题的国际先进光刻交流平台。

　　IWAPS持续欢迎国内外光刻相关企业围绕各自领域技术发展路线开展研讨交流，持续欢迎国内外高校和研究机构就技术发展难题贡献学术智慧和成果，持续欢迎有志于在这个领域奋斗的年轻工程师和学生热烈讨论，持续欢迎各个投资机构发现新机遇开拓新未来。

　　IWAPS是一个开放的学术交流平台，来这里聆听世界的学术声音，发现技术发展的瓶颈，提出您的学术观点。

　　第八届IWAPS定于

　　2024年10月15日-16日在浙江嘉兴南湖宾馆举行

　　建议参会者于10月14日报到

　　欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极报名！

　　报名方式

　　    本次会议采用全新线上报名、缴费方式。请扫描下方二维码，或点击报名链接进行报名、缴费。报名注册成功后您将收到核销码，该码为会议报道核销的有效凭证，请妥善保管。如有问题，可邮件咨询：iwaps@ime.ac.cn。

　　报名链接：

　　http://t1.ink/f/n7q1zh

　　报名二维码：

　　本届IWAPS接收论文将被送检SPIE Digital Library及EI。

　　SPIE（国际光学工程学会）成立于1955年，是一个致力于光学和光电子学的国际专业组织。总部位于美国华盛顿州贝灵厄姆，SPIE的使命是推进光学和光电子技术的科学、应用、教育和商业。SPIE每年举办多个国际会议和展览，为科学家、工程师和企业提供展示最新研究成果和技术的平台。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光学和光电子学文献数据库之一，提供了丰富的学术期刊、会议论文集和书籍，覆盖光学、光电子学、激光技术、生物医学光学等领域。这些资源和活动不仅促进了全球光学和光电子学的发展，也推动了创新技术的应用和专业人才的培养。

查询链接:https://spie.org/conferences-and-exhibitions/affiliated-events

　　特邀报告人

　　本次会议特别邀请到来自高校、科研院所和知名企业的专家与学者进行报告，更多详情请移步官网www.iwaps.org查看会议日程。