关于召开“2018国际先进光刻技术研讨会”的通知
2018-09-27
光刻是集成电路制造领域的关键技术之一，也是衡量产业发展水平的重要指标。为了加强光刻技术领域的交流与合作，开拓研发思路，解决技术难点，促进国内先进节点光刻工艺技术发展，在行业各方面的共同支持下，中国集成电路产业技术创新战略联盟拟定于2018年10月18-19日在福建厦门举办第二届“国际先进光刻技术研讨会(International Workshop for Advanced Patterning Solutions)”。会议将集中研讨先进光刻技术的热点问题，聚焦在14/10nm和7/5nm节点，包括design rules、pattern solutions、mask requirements、process scheme、EUV等。本次会议将会是一次高水平的技术研讨会。更多详细信息请访问会议官网：www.iwaps.org/cn
有意参会者请完成注册报名并填写附件“2018国际先进光刻技术研讨会注册回执”，并于2018年10月14之前将参会回执发至iwaps@ime.ac.cn。
会议联系人：010-82995561 粟老师；010-82995816 马老师
2018国际先进光刻技术研讨会注册回执.docx 
IWAPS会议_Program.pdf