10月16日，第八届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在浙江嘉兴胜利闭幕。会议由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司承办，中国科学院大学集成电路学院、广东省大湾区集成电路与系统应用研究院、中国光学学会光刻技术专业委员会、浙江产投集团有限公司、浙江芯晟半导体科技有限公司协办。本次会议由SIEMENS、全芯智造、EDWARDS、舒万诺、东方晶源、沈阳芯源、Nata、厦门恒坤、SMEE、PIBOND、ZEISS、徐州博康、KEMPUR、ADVANTEST、Fujifilm、Cymer、cobetter、KLA、JSR、Gigaphoton等国内外企业提供赞助。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多企业、科研机构、高校的六百余名技术专家和学者参加了本届大会。

大会合影

大会由组委会秘书长、SPIE会士、中国科学院微电子研究所研究员、中国科学院大学教授韦亚一研究员主持。大会主席、中国集成电路创新联盟理事长曹健林研究员；中国光学学会副秘书长、加拿大工程院院士、中国光学学会会士、美国光学学会会士、国际光学与光子学学会会士 、美国激光学会会士顾波；中国科学院微电子研究所副所长、中国科学院大学集成电路学院副院长李泠研究员；IWAPS-2024 程序委员会主席、FUJIFILM公司资深专家Toru Fujimori；IWAPS-2024 程序委员会主席、上海华力微电子技术专家周文湛分别致辞。按照大会安排，在两天的时间里，来自国内外企业和研究院校等数十家机构的嘉宾分别就拟定的主题做技术报告，深入分析光刻领域最新的技术进展和解决方案，内容丰富。演讲主题包含计算光刻、DTCO、EUV、工艺、量测、Deep Learning、设备、材料、新型光刻技术等。

组委会秘书长，SPIE会士，中国科学院微电子研究所研究员，

中国科学院大学教授韦亚一主持开幕式

大会主席，中国集成电路创新联盟理事长曹健林致辞

中国光学学会副秘书长，加拿大工程院院士，中国光学学会会士，

美国光学学会会士，国际光学与光子学学会会士 ，美国激光学会会士顾波致辞

中国科学院微电子研究所 副所长/研究员，中国科学院大学集成电路学院副院长李泠致辞

IWAPS-2024 程序委员会主席、FUJIFILM公司资深专家Toru Fujimori致辞

IWAPS-2024 程序委员会主席、上海华力微电子 技术专家周文湛致辞

近年来，中国集成电路蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。作为国际高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。大会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。