2022年10月22日，第六届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）顺利闭幕，本届大会由中国集成电路创新联盟，中国光学学会，中国电子学会主办；中国科学院微电子研究所，中国光学学会光刻技术专业委员会承办；广东省大湾区集成电路与系统应用研究院，南京诚芯集成电路技术研究院协办，IEEE电气和电子工程师协会提供支持。本次会议首次采用全线上的参会模式，聚焦先进节点，就光刻领域相关的热点问题进行了充分交流和探讨，为先进节点光刻工艺的研发提供技术思路、指导和答疑。

　　会议开始，由SPIE会士、中国科学院微电子研究所计算光刻研发中心主任韦亚一研究员主持开幕式。大会主席、中国集成电路创新联盟理事长、十三届全国政协教科卫体委员会副主任、季华实验室理事长兼主任曹健林研究员，大会主席、中国集成电路创新联盟副理事长兼秘书长、中国半导体行业协会副理事长、中国半导体行业协会集成电路分会理事长叶甜春研究员，中国光学学会秘书长、COS、OSA、SPIE会士、浙江大学现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭教授，西门子 D2S Calibre Marketing 副总裁 Steffen Schulze分别致辞。按照大会日程安排，在两天的时间里，来自 UCLA、Siemens EDA、 Synopsys、 BIT、 GDUT、 HLMC、 SMSC、 CXMT、 IMEC、 Fraunhofer IISB、Nikon、 Cymer、 CEPREI、 Canon、 Edwards、 JSR、PiBond、 ICCAS、 Fujifilm、 DJEL、 AMEDAC、 SIOM、ASML、徐州博康、北京超弦存储器研究院、张江实验室、苏科思科技、上海华力、北京理工大学、复旦大学、湖南大学等公司机构和高校的特邀嘉宾分别就拟定的主题作特邀报告，深入分析光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，包含先进节点的计算光刻技术、 SMO、 DTCO、EUV、工艺、量测、 Deep Learning、光刻设备、材料等，内容精彩丰富。

　　图1  领导致辞

　　为总结经验，IWAPS会务组从参会概况、会议内容等方面对本届研讨会做分析总结：

　　一、研讨会概况：

　　本届研讨会共计20000余线上参会人次。这是iwaps经过几届发展的积累，说明已经逐渐在国内外光刻领域建立了一定的影响力。从收集的报名信息来看，参会单位多为产业链上下游的从业人员，兼有科研院校的学者。

　　二、会议内容：

　　1. 疫情新态势下新的会议组织方式

　　面对新冠疫情不断散发的新态势，研讨会采用了全新的线上形式，使得会议如期圆满举行。会务组利用先进的线上会议平台，突破了地域限制，实现“屏对屏”的互动模式，远在千里之外的国外演讲嘉宾以视频方式与国内外参会者无缝沟通交流。此外，在内容形式上，利用微信公众号、Zoom、蔻享学术、B站等直播和录播相结合的方式，会议全程呈现全天候内容输出，同步推出演讲实况和内容。疫情并没有削弱业内对IWAPS的热情，参会者对会议的成功举办反响强烈。

　　2. 演讲报告继续保持高水准

　　本届研讨会共计报告67个，涵盖光刻工艺、计算光刻、光刻设备、光刻材料、掩模、EUV、新型光刻技术、测量和检测、DTCO等关键技术。演讲嘉宾共37位，其中海外专家13位，国内专家24位，另外精选出30个海报。演讲嘉宾中，特别邀请了美国加州学洛杉矶分校Puneet Gupta教授、欧洲IMEC公司Ryoung-han Kim博士做特邀报告，对光刻发展和设计制造协同优化等技术进行了特邀演讲和报告。

　　图2  演讲嘉宾