11月5日，第四届国际先进光刻技术研讨会在成都开幕，会议由中国集成电路创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、中科芯未来微电子科技成都有限公司和中国科学院光电技术研究所承办，成都市双流区人民政府和南京诚芯集成电路技术研究院协办，IEEE电气和电子工程师协会提供技术支持。本次会议由Mentor、EDWARDS、GIGAPHOTON、汉拓光学材料、华虹集团、JSR、沈阳芯源、KLA、南大光电、PIBOND、全芯智造、SMEE、燕东微电子、ZEISS、Cymer、KEMPUR等国内外企业提供赞助。来自中国、美国、德国、日本、荷兰等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共500余名技术专家和学者参加了本届大会。

会议开始，大会主席、中国集成电路创新联盟副理事长兼秘书长、中国科学院集成电路创新研究院（筹）院长叶甜春研究员，IEEE终身会士、SPIE & JSAP 会士、ALITECS公司资深经理冈崎信次（远程），中共成都市双流区委副书记李建分别致辞。中国光学学会秘书长、COS & OSA & SPIE会士、浙江大学教授、现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭教授主持开幕式。按照大会安排，在这两天的时间里，来自斯坦福大学、ARCNL、长存、长鑫、华力、Mentor、ASML、ICRD、Nikon、Canon、微软等公司机构的特邀嘉宾分别就拟定的主题做了特邀报告，深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，内容丰富，包含先进节点的计算光刻技术、SMO、DTCO、EUV、工艺、量测、Deep Learning、光刻设备、材料等。

本次会议由于疫情的原因，部分国外嘉宾无法现场参会，因此会议方开通了线上互动环节，除现场500余位参会者外，还有30余位国外演讲嘉宾和组委会成员线上参会，进行线上报告并与现场参会者进行互动。会议现场也严格执行成都疫情期间的管理方案，实行体温监测，发放口罩及消毒用品等措施。疫情并没有削弱业内对IWAPS的热情，参会人数相比往届会议有大幅提升。

近年来，中国集成电路蓬勃发展，基于这样的形式，国际先进光刻技术研讨会应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。作为国际高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

IWAPS已连续举办三届，今年在成都举办第四届。成都，在新中国成立初期就是国家四大电子工业基地之一，是我国中西部电子信息产业重要基地。这座新中国规划的电子产业基地已经走过了60余年的风风雨雨，为支撑我国的电子产业尤其是国防军工电子产业做出过巨大的贡献。成都的电子信息产业基础雄厚，拥有电子制造企业500余户，聚集了英特尔、IBM、格罗方德等60余家世界500强和国际知名公司，从业人员60余万。此外，成都还拥有一批国家级电子类高校和科研机构。作为中西部地区集成电路产业发展领先城市，近两年密集出台相关政策，加快推动集成电路产业发展，产业发展势头强劲。目前，成都已形成了从集成电路、新型显示、整机制造到软件服务的全产业链条，正聚焦“一芯、一屏”攻坚突破集群发展，积极创建“中国制造2025”国家级示范区。此次会议数百位行业专家齐聚一堂，共同把脉先进光刻技术的发展节奏，为助推产业升级改造指点迷津。

本次会议结合当前国内外光刻技术发展现状，以专业视角预测发展趋势，助谋集成电路产业发展，并将为双流区乃至成都市的集成电路产业发展提供更为广阔的发展思路，推动产业实现更快更优的提升。